PN結與PIN結的區別及PIN結二極管結構-KIA MOS管
信息來源:本站 日期:2023-07-26
在電子技術領域中,二極管作為一種常見的電子元件,扮演著重要的角色。普通的二極管由PN結組成。
在P和N半導體材料之間加入一薄層低摻雜的本征(Intrinsic)半導體層,組成的這種P-I-N結構的二極管就是PIN二極管,正因為有本征(Intrinsic)層的存在,PIN二極管應用很廣泛,從低頻到高頻的應用都有,主要用在RF領域,用作RF開關和RF保護電路,也有用作光電二極管(PhotoDiode)。PIN二極管包括PIN光電二極管和PIN開關二極管。
因為PD的主要有源區是勢壘區,所以展寬勢壘區即可提高靈敏度。p-i-n結快恢復二極管實際上也就是人為地把p-n結的勢壘區寬度加以擴展,即采用較寬的本征半導體(i)層來取代勢壘區,而成為了p-i-n結。
p-i-n結快恢復二極管的有效作用區主要就是存在有電場的i型層(勢壘區),則產生光生載流子的有效區域增大了,擴散的影響減弱了,并且結電容也大大減小了,所以其光檢測的靈敏度和響應速度都得到了很大的提高。
因為PIN二極管的射頻電阻與直流偏置電流有關,所以它可以用作為射頻開關和衰減器。串聯射頻開關電路:當二極管正偏時,即接通(短路);當二極管零偏或者反偏時,不僅開關的最高工作頻率會受到限制,最低工作頻率也會受到限制,如PIN管就不能控制直流或低頻信號的通斷。受管子截止頻率的影響,開關還有一個上限工作頻率。要求開關的頻帶盡量寬,因為信號源的頻帶越來越寬。
pn結和pin結是兩種最基本的器件結構,也是兩種重要的二極管。從結構和導電機理上來說,它們有許多共同點,但是也存在不少的差異。
相同點:
(1)都存在空間電荷區和勢壘區,則都有勢壘電容;
(2)都具有單向導電性和相應的整流作用,則都可用作為二極管;
(3)在高的反向電壓下,都有可能發生絕緣擊穿的現象,因此都存在有最高工作電壓的限制;
(4)都具有感光作用,可以作為光電二極管和光電池等光電子器件。
不同點:
(1)空間電荷區:
pn結的空間電荷區就是界面附近的區域,其中存在較強的內建電場,使得載流子往往被驅趕出去了,故一般可近似為耗盡層。
pin結的空間電荷區是在i型層(本征層)兩邊的界面附近處,則有兩個空間電荷區(即p-i和n-i兩個界面的空間電荷區),一個空間電荷區包含有正電荷,另一個空間電荷區包含有負電荷,這些空間電荷所產生的電場——內建電場的電力線就穿過i型層。
(2)勢壘區:
pn結中阻擋載流子運動的區域,即存在內建電場的區域就是勢壘區;pn結的勢壘區也就是空間電荷區,即空間電荷區與勢壘區是一致的。
但是pin結中存在內建電場的區域是整個i型層加上兩邊的空間電荷區,因此勢壘區很寬(主要就是i型層的厚度),這時勢壘區與空間電荷區并不完全一致(勢壘厚度遠大于空間電荷區)。
(3)勢壘電容:
pn結的勢壘電容也就是空間電荷區的電容,而空間電荷區的厚度與外加電壓有關,則勢壘電容是一種非線性電容;并且pn結的勢壘電容也與兩邊半導體的摻雜濃度和溫度有關(摻雜濃度越大,或者溫度越高,勢壘厚度就越小,則電容也就越大)。
但是pin結的勢壘電容基本上就是i型層的電容,因此該勢壘電容是一種線性電容;并且pin結的勢壘電容與兩邊半導體的摻雜濃度和溫度基本上沒有什么關系。由于i型層較厚,則pin結的勢壘電容很小,因此可用作為微波二極管。
(4)導電機理:
pn結的電流主要是注入到勢壘區兩邊擴散區中少數載流子的擴散電流,這就意味著:通過pn結的電流是少數載流子擴散電流,并且少數載流子的擴散是在勢壘區以外的擴散區中進行的。而勢壘區的影響只是其中復合中心提供少量的復合-產生電流(只在低電壓時起重要作用)。
但是pin結的電流主要是較寬的勢壘區(~i型層)中的復合電流。因此在通過的電流的性質上,與一般pn結的大不相同。雖然它們的伏安特性基本上都是指數式上升的曲線關系,但是上升的速度卻有一定的差別,pin結的正向伏安特性曲線上升得稍慢一點。
(5)工作電壓:
pn結的勢壘厚度一般較薄,并且電場在pn結界面處最大,則容易發生雪崩擊穿,從而承受的反向電壓有限。
但是pin結的勢壘厚度很大(~i型層),并且電場在i型層中的分布基本上是均勻的,則不容易發生雪崩擊穿,能夠承受很大的反向電壓,從而pin結二極管可用作為高電壓大功率器件。
(6)感光(探測)靈敏度:
作為光電子器件(光電二極管、紅外探測器、太陽電池等)使用時,感光(探測)靈敏度主要決定于勢壘區的寬度。
pn結因為勢壘厚度較薄,則感光靈敏度較小。
但是pin結由于它的勢壘厚度很大(~i型層),則能夠吸收大量的光子、并轉換為載流子——光生載流子,所以感光和探測輻射的靈敏度很高。
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